极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUVEUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的下一代光刻技术,其波长为13.5纳米,预计将于2020年得到广泛应用。几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收,因此,EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜。

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清华等团队首次验证"稳态微聚束"SSMB光源,有望应用于EUV光刻机和角分辨光电子能谱学等领域

EUV高端光科技一直是中国科技界特别是芯片行业的痛,国内曾经提出过多种路线和方案,但均被证明不可行。25日,清华与德国HZB及PTB的合作团队首次验证了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”(Steady-state microbunching,SSMB)的首个原理实验。有望打破EUV的新局面,破解“卡脖子”难题。